HY-PS13은 웨이퍼 포토레지스트 제거, 세척 및 표면 활성화에 특화된 CCP 진공 플라즈마 시스템입니다. 연구실 및 소규모 반도체 생산 현장에서 널리 사용되는 이 시스템은 스테인리스 스틸 챔버와 펌프 및 가스 모듈이 완비되어 있어 접합, 코팅 및 박막 공정에서 재료 표면의 접착력과 친수성을 향상시킵니다.
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