HY-EL25H는 연구 기관, 기업 R&D 부서 및 소규모 파일럿 생산 라인에서 널리 사용되는 실험실용 플라즈마 처리 시스템입니다. 이 시스템은 CCP(정전용량 결합 플라즈마) 방전 기술을 채택하고 있습니다. 전체 시스템은 정사각형 스테인리스 스틸 진공 챔버, 플라즈마 발생기, 진공 펌프 및 가스 유입/배출구로 구성됩니다.이 장비는 기판 표면 접착력을 효과적으로 향상시키고 표면 친수성을 개선하여 재료 접합, 코팅, 기판 박막 증착 및 웨이퍼 접합 등 다양한 분야에 응용됩니다. 반도체, 미세유체 및 신소재 연구 프로젝트에 안정적이고 재현 가능한 플라즈마 처리를 제공합니다.
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