HY-EB03H 2.5L 탁상형 ICP 처리 장치는 13.56MHz RF 출력과 이중 가스 채널을 갖춘 소형 실험실용 플라즈마 표면 처리 장비입니다. 고밀도 ICP 플라즈마를 생성하여 재료를 세척, 활성화, 에칭 및 접합하는 데 사용되며, PDMS 미세유체, 포토레지스트 애싱 및 반도체 실험실 연구에 널리 활용됩니다.
상표 :
HYRNUS품목 번호 :
HY-EB03H주문량(최소 주문 수량) :
1 Set보증 :
One-Year Warranty and Lifetime Maintenance지불 :
T/T리드 타임 :
7-35 Days제품 원산지 :
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