플라즈마 세척기

HY-EB03H 2.5L 탁상형 ICP 처리 장치는 13.56MHz RF 출력과 이중 가스 채널을 갖춘 소형 실험실용 플라즈마 표면 처리 장비입니다. 고밀도 ICP 플라즈마를 생성하여 재료를 세척, 활성화, 에칭 및 접합하는 데 사용되며, PDMS 미세유체, 포토레지스트 애싱 및 반도체 실험실 연구에 널리 활용됩니다. 

이 산업용 진공 플라즈마 세척기는 13.56MHz RF 전력과 PLC 터치 제어 방식을 채택했습니다. 군용 등급의 ​​밀폐 챔버, 이중 플라즈마 모드 및 이중 조절식 가스 채널을 갖추고 있으며, 최대 100개의 공정 레시피를 저장하여 균일한 플라즈마 처리를 제공합니다.

HY-PS13은 웨이퍼 포토레지스트 제거, 세척 및 표면 활성화에 특화된 CCP 진공 플라즈마 시스템입니다. 연구실 및 소규모 반도체 생산 현장에서 널리 사용되는 이 시스템은 스테인리스 스틸 챔버와 펌프 및 가스 모듈이 완비되어 있어 접합, 코팅 및 박막 공정에서 재료 표면의 접착력과 친수성을 향상시킵니다.

HY-ES10 이 시스템은 실험용 플라즈마 처리 시스템으로, 연구 기관, 대학, 기업 연구 개발 연구소 및 소규모 생산 라인에서 널리 사용되고 있습니다. 이 장비는 CCP(정전용량 결합 플라즈마) 방전 기술을 채택하고 있습니다. 전체 시스템은 진공 챔버, 플라즈마 발생기, 진공 펌프, 가스 유입 및 배출구로 구성됩니다. 처리 챔버는 정사각형 스테인리스강으로 제작됩니다.

HY-AR03은 상온 대기 중에서 공작물 표면 세척, 활성화 및 개질을 수행합니다. 기판 접착력, 친수성 및 인쇄성을 최적화하고 유기 잔류물, 기름때 및 산화층을 제거합니다. IC 패키징, 인쇄, 접합 및 코팅 공정의 전처리 장비로 이상적인 이 소형 장치는 낮은 운영 비용으로 인라인 자동 생산을 지원합니다.

HY-AD03 대기 직접 플라즈마 세척 장치는 상온 대기 조건에서 표면 세척, 활성화 및 개질을 위해 설계되었습니다. 작은 면적에 집중된 에너지를 전달하여 제품의 접착력, 친수성 및 인쇄성을 효과적으로 향상시킵니다. 또한 유기 잔류물, 기름때, 산화막과 같은 오염 물질을 재료 표면에서 제거할 수 있습니다.

HY-TM500은 진공 챔버 없이 대기압 환경에서 작동합니다. 맞춤형 3축 레일을 통해 정밀한 표면 처리를 제공합니다. 군용 등급 하드웨어와 디지털 제어 시스템을 탑재했으며, 0~800W의 출력 조절이 가능합니다. 무전위 저온 플라즈마는 PCB, FPC 및 반도체 부품을 보호하고, 표면 세척, 활성화 및 개질을 통해 접착, 인쇄 및 코팅 성능을 향상시킵니다. 3C, 디스플레이, 반도체, 자동차 및 신에너지 산업 분야의 인라인 자동화에 적합합니다.

HY-DC1000은 넓은 면적을 커버하는 회전식 건과 20mm에서 80mm까지 교체 가능한 노즐을 갖추고 있어, 풀 사이즈 PCB, 신에너지 배터리 전극, 자동차 플라스틱 부품, 디스플레이 유리 패널 등 대형 평면 공작물에 최적화되어 있습니다. 0~1000W의 광범위한 출력 조절 기능을 통해 넓은 표면에 균일한 플라즈마 코팅을 형성하여 유기 오염 물질을 효과적으로 제거하고, 대량 생산 인라인 조립 라인에서 발생하는 인쇄 기포 및 코팅 박리 문제를 해결합니다.

HY-AC500은 회전식 플라즈마 스프레이 건과 듀얼 수동 및 I/O 제어 모드를 채택하여 PCB, FPC, BGA 및 반도체 칩의 균일한 세척, 활성화 및 미세 에칭을 구현합니다. 군용 등급 하드웨어, 디지털 실시간 모니터링 및 다층 안전 보호 기능을 갖추고 있습니다. 이 1000W 데스크톱 아날로그 플라즈마 장비는 반도체 패키징, 3C 전자 제품, 디스플레이, 자동차 전자 제품 및 신에너지 산업 분야의 전처리 공정에 널리 사용됩니다.